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真空镀膜钛靶材

[ 信息发布:管理员 | 发布时间:2017-06-24 | 浏览:1094次 ]

真空镀膜钛靶材
真空镀膜钛靶材
发布时间:2017-06-24
联系电话:18700763094   0917-3632690
产品介绍:

1. 产品简介

钛含量≥:99.8(%)杂质含量:0.02(%)
牌号: TA1,TA2,TA3,TC4(Ti6AL4V),GR1,GR2,GR3,GR5( Ti6AL4V)

钛圆靶 :技术条件:符合GB/T2695-1996,ASTMB348-97

钛板靶 :技术条件:符合GB/T3621-94,ASTM B265-93

用途:用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层,玻璃镀膜工业

2. 产品规格

圆靶:常用规格:60/65/95/100*30/32/40/45mm
板靶:(8-25)mm * (150-300) mm * (1000-2500)mm
管靶: 70mm * 7mm/10mm

3. 材质
TA1(Grade 1)、Zr1、Ta1、Mo1、Ni6


4. 性能标准

化学成分符合 GB/T 3621-2007,GB/T 2965-2007,GB/T 3625-2007 等标准。


5. 标准值

化学成分参考标准

牌号

Al

V

N≤

C≤

H≤

Fe≤

O≤

其他元素(单一)

其他元素(总和)

TA1

0.03

0.08

0.015

0.20

0.18

0.1

0.40

TA2

0.03

0.08

0.015

0.30

0.25

0.1

0.40

TC4

5.5-6.75

3.5-4.5

0.05

0.08

0.015

0.30

0.20

0.1

0.40


机械性能参考标准

牌号

室温下力学性能,不小于

抗拉强度

屈服强度

伸长率

断面收缩率

TA1

240 MPa

170MPa

25%

30%

TA2

345MPa

275 MPa

20%

30%

TC4

895MPa

825 MPa

10%

20%

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